韩先锋,董明放
经济问题探索. 2017, 38(12): 73-82.
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本文基于中国智慧城市上市企业的相关数据,运用面板门槛回归技术探讨了研发投入对智慧城
市企业技术进步影响的内在机理。结果表明:一方面,研发投入总体上显著地促进了企业技术进步,但这种
影响具有明显的倒“U”型非线性动态特征,只有适度的研发投入强度才能推动企业技术进步,过高的研发
投入强度反而会产生一定的抑制作用。另一方面,研发投入对企业技术进步的非线性影响规律存在一定的所
有制差异,民营企业、公众企业和国有企业的研发投入对其技术进步分别具有倒“W” 型、有条件的“U”
型和负向且边际效率递减的非线性影响。进一步对研发投入促进企业技术进步的约束机制分析表明:一是在
资本密度和企业规模门槛条件下,研发投入对企业技术进步的影响均具有显著的“U” 型非线性规律,只有
在较高的资本密度和企业规模水平条件下,研发投入才会显著地促进企业技术进步。二是在股权集中度门槛
条件下,研发投入对企业技术进步呈现明显的“N” 型影响特征,只有适度的股权集中度水平才有利于研发
投入的技术进步效应溢出。三是新常态下,多数企业的资本密度、规模水平和股权集中度均尚未处于最优门
槛区间,不断提高资本密度和企业规模水平,持续优化股权结构应是持续推动研发投入促进智慧城市企业技
术进步效应的有效手段。